创业项目题材 苏州某半导体设备厂出产流程中与此同时引起高硅电镀污焦化废水 （SiO₂ 500-800mg/L）和含氟电镀污焦化废水 （F⁻ 200-300mg/L）。二者电镀污焦化废水 混易于构成氟硅酸溶液，傳統化学析出法根本无法平稳考核原则。内容请求一起清理硅和氟（排放量原则：SiO₂≤30mg/L，F⁻≤10mg/L）。 废水处理组成及來源 大部分含量 ：硅酸氢钠（NaHSiO₃）、氟化铵（NH₄F）、异丙醇 源于 ：晶圆刻蚀焦化生活污水、CMP机磨焦化生活污水、设施设备洗水 治疗工艺的流程的流程 协同作战沉淀出的过程 ： 两极表现池 ： 第1级污泥脱水Ca(OH)₂转成CaF₂和CaSiO₃奠定； 二级污泥脱水PAC（整合氯化铝）增幅斜板沉淀池。 固液破乳分阶段 ： 反渗透装置体统 ：用到0.02μm管径膜器件截流悬浊液硅和微细结晶物。 厚度脱氟的时候 ： 亲水性氧化物铝离心分离塔 ：的残留物氟铝离子吸附物洗去。 终结功效 冒水SiO₂≤25mg/L，F⁻≤8mg/L，远相较于的国家规格。 反渗透膜模式通量保持稳定在15LMH，化学工业洁净寿命调长至60天。 生活污水经压滤后含水量率＜65%，可按似的固体废物妥善处理。